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EDI超純水設(shè)備是以反滲透技術(shù)為基礎(chǔ),結(jié)合中國(guó)水質(zhì)特點(diǎn)以及用戶需求水質(zhì)自主研發(fā)而成,三達(dá)EDI超純水設(shè)備產(chǎn)水水質(zhì)可達(dá)5~18.2MΩ的高脫鹽效果,系統(tǒng) EDI電去離子模塊是將電滲析和離子交換相互結(jié)合在一起的除鹽新工藝,取代傳統(tǒng)陰陽(yáng)樹(shù)脂混合離子交換除鹽工藝,與反滲透技術(shù)或拋光混床結(jié)合的聯(lián)合工藝的產(chǎn)水水質(zhì)可達(dá)5~18.2MΩ的高脫鹽效果 EDI超純水設(shè)備特點(diǎn): 1、產(chǎn)水水質(zhì)高而穩(wěn)定,連續(xù)不間斷制水,不因再生而停機(jī)。 2、無(wú)需化學(xué)藥劑再生,無(wú)酸堿儲(chǔ)備及運(yùn)輸費(fèi)用,操作簡(jiǎn)單、安全. 3、占地面積小,運(yùn)行費(fèi)用及維修成本低。 4、設(shè)備單元模塊化,可靈活的組合各種流量的凈水設(shè)施,全自動(dòng)運(yùn)行,無(wú)需專人看護(hù)。 EDI超純水設(shè)備應(yīng)用范圍:火電廠化學(xué)用高純水制備;電子、半導(dǎo)體、精密機(jī)械、噴涂行業(yè)超純水制備; 制藥工業(yè)工藝用高純化水制備;精細(xì)化工、精尖學(xué)科用高超水制備;半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路清洗用水。
向掌柜 張英 提問(wèn):