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建材專用中頻磁控鍍膜設(shè)備

發(fā)布時間:2016年3月6日   |   閱讀次數(shù): 665

該系列設(shè)備主要集中頻磁控濺射、電弧離子蒸發(fā)和離子源及脈沖偏壓結(jié)合等技術(shù)為一體,實(shí)行全自動化控制。此設(shè)備廣泛應(yīng)用于表帶、表殼、手機(jī)殼、五金、餐具等工件上鍍制 TiN,TiC,TiCN、TiAIN,CrN,Cu,Au,Al2O3等各種裝飾膜層。

參數(shù)說明:

型號 JTL-1090 JTL-1110 JTL-1312 JTL-1613
真空室尺寸 Φ 1000Χ900mm Φ 1100Χ1000mm Φ 1300Χ1200 mm Φ 1600Χ1300 mm

鍍膜方式及主要配置

3個電弧+平面矩形陰極2對 6個電弧+圓柱陰極2對+平面矩形陰極1對 6個電弧+圓柱陰極4對+平面矩形陰極1對 8個電弧+圓柱陰極8對+平面矩形陰極1對

鍍膜種類

金屬膜,介質(zhì)膜,化合物膜,反應(yīng)膜,多功能層次膜

電源

電弧電源,真空磁控電源,中頻磁控電源,脈沖偏壓電源,離子源電源

真空室結(jié)構(gòu)

立式前(單)開門,后置抽氣系統(tǒng),雙層水冷

真空系統(tǒng)組成

分子泵(擴(kuò)散泵)+羅茨泵+機(jī)械泵

極限真空

8.0Χ10-4

抽氣時間

大氣抽至3Χ10-3Pa≤15min

工件運(yùn)動方式

公 /自轉(zhuǎn),變頻調(diào)速

工件烘烤溫度

常溫到 350oC可調(diào)可控

控制方式

全自動化控制 PC+PLC/PC+HMI

備注

該設(shè)備可按客戶產(chǎn)品及特殊工藝要求訂做

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