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不銹鋼鍍鈦(離子鍍膜)技術(shù),其具體原理是在真空條件下,采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù),利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離,利用電場(chǎng)的加速作用,使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。
PVD中文意思是"物理氣相沉積",是指在真空條件下,用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術(shù)。
PVD鍍膜和PVD鍍膜機(jī)
向掌柜 王經(jīng)理 提問: