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EDI超純水設(shè)備是以反滲透技術(shù)為基礎(chǔ)，結(jié)合中國水質(zhì)特點(diǎn)以及用戶需求水質(zhì)自主研發(fā)而成，三達(dá)EDI超純水設(shè)備產(chǎn)水水質(zhì)可達(dá)5~18.2MΩ的高脫鹽效果，系統(tǒng) EDI電去離子模塊是將電滲析和離子交換相互結(jié)合在一起的除鹽新工藝，取代傳統(tǒng)陰陽樹脂混合離子交換除鹽工藝，與反滲透技術(shù)或拋光混床結(jié)合的聯(lián)合工藝的產(chǎn)水水質(zhì)可達(dá)5~18.2MΩ的高脫鹽效果
EDI超純水設(shè)備特點(diǎn)：
1、產(chǎn)水水質(zhì)高而穩(wěn)定，連續(xù)不間斷制水，不因再生而停機(jī)。
2、無需化學(xué)藥劑再生，無酸堿儲備及運(yùn)輸費(fèi)用，操作簡單、安全.
3、占地面積小，運(yùn)行費(fèi)用及維修成本低。
4、設(shè)備單元模塊化,可靈活的組合各種流量的凈水設(shè)施，全自動運(yùn)行，無需專人看護(hù)。
EDI超純水設(shè)備應(yīng)用范圍：火電廠化學(xué)用高純水制備；電子、半導(dǎo)體、精密機(jī)械、噴涂行業(yè)超純水制備； 制藥工業(yè)工藝用高純化水制備；精細(xì)化工、精尖學(xué)科用高超水制備；半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路清洗用水。
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公安備案號21010302000002
